芯片重要性的日益提升，讓關鍵設備光刻機成了關注焦點。原因就是美方盯上了光刻機，把其作為芯片限制的重要工具，而光刻機又是我們芯片設備中的一大短板。

為此，我們只有實現國產光刻機突破。而近年來ASML的態度變化，正好反映出我們光刻機進展。近日，ASML明顯有些慌了，原來是中科院EUV光刻機又有進展。

多年來，歐美很多國家不僅僅是簽訂了《瓦森納協議》，對我們限制高端技術和設備等方面的出口，而是付諸于實際行動。很多設備我們花高價購買，售后也很昂貴。

設備出了問題，我們請國外技術人員來維修，需要承擔人家從出門開始的一切費用和開銷，并且人家維修時還會拉上一道線，防止我們靠近學習，并且態度還很傲慢。

這還不算，關鍵還要人家安排時間，造了時間上的浪費，所以必須實現國產突破。

盾構機就是這樣的一個明顯特例，我們沒突破前，進口價格一台3.5億元，我們自主研發突破后，國外價格直接降為5000萬，想要通過降價傾銷，打壓我們的發展。

其實，光刻機也不例外。ASML作為全球領先的光刻機制造商，獨家壟斷了EUV光刻機市場，占據了DUV光刻機市場90%左右的份額，憑借壟斷地位賺得盆滿缽滿。

不僅如此，ASML還時刻關注著我們的光刻機進展，也多次進行適時的傾銷打壓。

我們光刻機研發起步很早，甚至在ASML成立之前，就研發出了中國第一台接近/接觸式光刻機，只是後來沒有投入商用，芯片發展一度停滯，光刻機發展也就停止了。

等到2000年左右，我們開始下定決心研發光刻機，成立了上海微電子，曾組隊到荷蘭ASML參觀學習，當時人家直接表示：即使把圖紙給你們，你們也造不出光刻機！

這個言論不只是對我們的輕視，主要是用光刻機的復雜性，來打消我們的研發起步。

即使如此，上海微電子通過自己的努力，突破了90nm光刻機技術。但就當要啟動量產時，西方就迅速修改了《瓦森納協議》，允許向我們出口高于45nm的光刻機。

于是，ASML就開始向我們傾銷64nm的光刻機，導致上海微電子90nm光刻機還沒量產上市，市場就被搶占，導致研發資金難以收回，這就嚴重影響了繼續向下研發。

于是，當時專家提出雙線并進，一方面研發浸沒式DUV，另一方面研發EUV技術。

如今，美方不斷加碼芯片限制，又想要ASML限制DUV光刻機。但ASML一開始就不愿意，即使美日荷三方達成了協議，荷蘭宣布實施限制，ASML還是在想法出貨。

并且ASML的語氣開始改變，表示美方一味限制，只會促使中國實現技術突破，做出跟ASML匹敵的光刻機。近日還公開表示，預計今年將向中國出貨更多的光刻機。

ASML在限制下還如此操作，無非是上海微電子的28nm浸沒式光刻機即將要推出。

不僅如此，近日ASML總裁還在接受媒體采訪時表示，中國研發光刻機是在破壞全球產業鏈。這言論是不是非常可笑，好像有點慌不擇言，那為什麼會突然這樣講？

原來中科院傳出了EUV光刻機的新消息，中科院前院長、院士白春禮近日到長春光機所調研，實地參觀了EUV光源樣機，對其取得的關鍵技術突破給予了充分肯定。

EUV光源是EUV光刻機三大核心部件之一，已經做出了樣機，說明取得了新進展。

光刻機的制造一般要先研制出原理樣機，然后是工程樣機，再往后就是量產應用。從近日消息來看，最難的EUV光源實現突破，看來國產EUV光刻機也不會太遠了。

這應該是ASML總裁慌不擇言的重要原因吧，竟然會說出我們研發光刻機破壞全球產業鏈的言論，看來 ASML確實慌了！對于我們的進步，外媒直接表示：太快了！